国家知识产权局信息显示，武汉楚兴技术有限公司申请一项名为“半导体器件及其制备方法、电子设备”的专利，公开号CN 121054595 A，申请日期为2024年5月。
专利摘要显示，本公开的实施例提供一种半导体器件及其制备方法、电子设备，涉及半导体技术领域，旨在提高半导体器件的键合强度，提高半导体器件的性能。半导体器件包括：层叠设置的第一半导体结构和第二半导体结构；所述第一半导体结构包括层叠设置的第一基底和第一键合层；所述第二半导体结构包括层叠设置的第二基底和第二键合层；所述第一键合层和所述第二键合层互相键合；所述第一键合层的材料包括碳元素、硅元素和氧元素，和/或，所述第二键合层的材料包括碳元素、硅元素和氧元素。
天眼查资料显示，武汉楚兴技术有限公司，成立于2022年，位于武汉市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本2074316.847826万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉楚兴技术有限公司参与招投标项目38次，财产线索方面有商标信息13条，专利信息95条，此外企业还拥有行政许可321个。
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