成 都 创 芯 电 子
CHENGDU TRANTION ELECTRONIC
原装正品 · 现货供应 · 正规增票

美再伸黑手叫停ASML对华出口光刻机,中国光刻机发展如何?

发表时间:2020-01-07 19:40

中国创新技术发展越来越快,美国越来越焦虑。

近日,据外媒报道,美政府试图阻挠荷兰光刻机巨头阿斯麦(ASML)向中芯国际出售一台价值1.5亿美元的EUV(极紫外光刻机)。


对此,荷兰半导体设备供应商ASML表示,无论有无美国发放的极紫外光光刻机(EUV)销售许可证,ASML 都希望对华继续供应半导体设备,并希望2020年增加其产品在中国市场的销售份额。


《瓦森纳协定》卡脖子,中国半导体工艺难提升


目前,荷兰ASML是光刻机领域的龙头老大,占据超过80%的市场份额,垄断了高端光刻机市场。

作为集成电路制造过程中的核心设备,光刻机起到至关重要的作用,芯片厂商想要提升工艺制程,就必须要向ASML购买光刻机,全球知名的芯片厂商英特尔、三星、海力士、台积电、联电、格芯等都是ASML的客户。

中国市场一直以来都是ASML看好的重点业务区域,然而近些年来却因为美国的“黑手”而接连遇阻。为什么这么说呢?这里不得不提到《瓦森纳协定》。

《瓦森纳协定》又称“瓦森纳安排机制”,全称为《关于常规武器和两用物品及技术出口控制的瓦森纳安排》,目前共有包括美、日、英、俄等40个成员国(没有中国)。尽管《瓦森纳协定》规定成员国自行决定是否发放敏感产品和技术的出口许可证,并在自愿基础上向其他成员国通报有关信息,但实际上完全受美国控制。

每当某一成员国计划向中国出口某项高新技术时,美国甚至直接出面干涉,比如当年捷克向中国出口“无源雷达设备”时,美便向捷克施压,迫使捷克停止这项交易。

不过《瓦森纳协定》协定也并非完全禁售,只是针对最新的几代设备。就好比别人都能用最新的技术,而你就只能用落后了两到三代的技术,长期保持这样状况就会造成中外高端技术差距越来越大。

据小编了解,美国早在2018年就开始伸手阻挠光刻机进入中国市场。此前,荷兰政府已经向ASML授权允许向中国客户出口光刻机设备。然而美国在得到这个消息后,采取各种措施阻挠光刻机出口中国。

2019年6月,美国国务卿蓬佩奥就曾亲自游说荷兰政府,并要求荷兰首相马克.吕特阻止ASML向中国出口光刻机的交易;

同年7月,吕特到访美国时,美国副国家安全顾问库伯曼甚至还向荷兰首相马克.吕特分享一份关于“中国获得光刻机的可能后果”的“机密情报”,以拉拢荷兰站队;

故事发展的后续相信大家也都清楚了,为了避免因供应最先端设备给中国因而刺激到美国,ASML于11月7日宣布,将暂时停止原定于2019年底向芯片制造商中芯国际交付的EUV极紫外线微影设备。


面对技术封锁,中国的光刻机水平发展如何了?


光刻机的技术门槛非常高,可以说是集人类智慧大成的产物。它不仅体现在后续芯片制造的高级工艺上,就连制造光刻机本身,也采用了许多全世界上最先进的技术。而我国光刻机发展迟缓,不止在于难以进口成品光刻机设备,即使是生产光刻机所需的关键零件对我国也是禁运的,所以制约了我国光刻机技术的发展。

资料显示,1977年,我国最早的光刻机-GK-3型半自动光刻机诞生,这是一台接触式光刻机。当时光刻机巨头ASML还没有出现,而日本的尼康和佳能已于60年代末开始进入光刻机领域。然而苦于当时国内生产工艺尚不成熟,所以光刻机也一直没有得到更深入的研究。

80~90年代,“造不如买”的思想席卷了大批制造企业,在集成电路产业方面也出现了脱节,覆巢之下无完卵,此时的光刻机产业同样也出现了衰退。虽然后续一直在追赶国外列强的脚步,但产业环境的落后加上本来就与世界先进企业有差距,使得中国终究没有在高端光刻机领域留下属于自己的痕迹。

千禧年是全球半导体产业兴旺的时代,也是中国开始重新关注并发展EUV技术的时期,最初开展的基础性关键技术研究主要分布在EUV光源、EUV多层膜、超光滑抛光技术等方面。

2008年,“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”专项将EUV技术列为下一代光刻技术重点攻关的方向。中国企业将EUV列为了集成电路制造领域的发展重点对象,并计划在2030年实现EUV光刻机的国产化;

2016年,清华大学“光刻机双工件台系统样机研发”项目成功通过验收,标志中国在双工件台系统上取得技术突破,在实现光刻机国产化万里长征上踏出了重要一步;

2017年,“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”国家科技重大专项(02专项)实施管理办公室组织专家在中国科学院长春光学精密机械与物理研究所召开了“极紫外光刻关键技术研究”项目验收会。专家评审充分肯定了项目取得的一系列成果,一致同意项目通过验收,认为该项目的顺利实施将我国极紫外光刻技术研发向前推进了重要一步;

2018年,国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制,光刻分辨力达到22纳米,结合双重曝光技术后,未来还可用于制造10纳米级别的芯片...

可以看到,在光刻机的自主研发进程上,中国也取得了很大的进步。但是想要赶上国际列强的水平,仍然需要更多的努力。

除了政策与学术科研单位的大力支持以外,不少企业也积极投身于此,比较知名的有上海微电子装备、合肥芯硕半导体、无锡影速半导体、先腾光电科技等等。

其中,上海微电子装备有限公司可以说是我国光刻机生产的龙头企业,目前可以稳定生产90nm制程工艺的光刻机,并且占领了国内80%的光刻机市场。据悉,目前已经开始了65nm制程光刻机的研制。

总而言之,我国光刻机技术发展较晚,也没法像5G这种新兴技术一样能够“后来居上”,目前的光刻机技术还在起步探索阶段,虽然取得了一些小成就,但离ASML这种光刻机巨头的先进工艺技术还有很大差距。

如今正是国家政府大力发展半导体产业的兴旺时期,希望科研单位、相关企业的努力不会白费,早日让中国打造出属于自己的高端光刻机产品,以打破国外的垄断。

品牌.jpg


成都创芯电子科技有限公司致力成为西南地区最优秀的电子元器件代理分销商

Phone:+86-15828333292  Email:trantion@sina.com

地址:成都市郫都区菁蓉镇静园东路260号创梦楼1楼

关键词:连接器HRS广濑IC芯片ADI亚诺德Xilinx FPGAAltera FPGAMini-circuitsQorvo、微波射频、军工芯片


备案图标.png川公网安备 51012402000355号‍  蜀ICP备19001721号

会员登录
登录
其他帐号登录:
回到顶部